核心提示：攝像模組/指紋模組清洗劑W3500是針對攝像頭模組鏡頭清洗開發(fā)的一款環(huán)保型水基清洗劑，主要適用于去除對攝像頭鏡片上沾附的油污、手印、靜電粒子、灰塵等Particle污染物。配合超聲波清洗工藝，可用于攝像頭模組等具有高精、高密、組裝有microBGAs、Flip-Chips等高新元器件的高潔凈清洗。
攝像模組/指紋模組清洗劑W3500介紹
攝像模組/指紋模組清洗劑W3500是針對攝像頭模組鏡頭清洗開發(fā)的一款環(huán)保型水基清洗劑，主要適用于去除對攝像頭鏡片上沾附的油污、手印、靜電粒子、灰塵等Particle污染物。配合超聲波清洗工藝，可用于攝像頭模組等具有高精、高密、組裝有microBGAs、Flip-Chips等高新元器件的高潔凈清洗。該產(chǎn)品采用我公司專利技術研發(fā)，清洗力強，氣味清淡，不含鹵素。溫和配方對FPC等板材所用敏感金屬及電子元器件等均具有良好的材料兼容性，是一款非常理想的環(huán)保型水基清洗劑。
攝像模組/指紋模組清洗劑W3500的產(chǎn)品特點：
1、清洗負載能力高，具有超長的使用壽命，維護成本低。
2、適用于如攝像頭模組等具有高精、高密、高潔凈清洗要求的精密電子零件的清洗。
3、配方溫和，對 FPC 等板材所用敏感金屬合金及電子元器件等均具有良好的材料兼容性。
4、能有效清除鏡片表面殘留的靜電、污垢及金屬離子、灰塵等 Particle，清洗率高達 95%以上；
5、不含鹵素，使用安全，不需要額外的防爆措施。
攝像模組/指紋模組清洗劑W3500的適用工藝：
水基清洗劑W3500適用于超聲波清洗工藝。
攝像模組/指紋模組清洗劑W3500產(chǎn)品應用：
水基清洗劑W3500主要用于去除油污、手印、靜電粒子、灰塵等污染物，對金屬氧化層也有一定的清洗效果。
W3500用在超聲波清洗工藝中，可批量清洗結構復雜的電子組裝件，對于底座低間隙的助焊劑殘留物也能達到很好的清洗效果。在超聲波清洗工藝中，將待清洗件浸沒在清洗槽中，利用超聲波在清洗劑中的空化作用、加速度作用及直進流作用，和清洗劑對污垢的超強溶解性相結合，使污垢層被溶解、分散、乳化，或剝離而達到清洗目的。
攝像模組/指紋模組清洗劑W3500是針對攝像頭模組鏡頭清洗開發(fā)的一款環(huán)保型水基清洗劑，主要適用于去除對攝像頭鏡片上沾附的油污、手印、靜電粒子、灰塵等Particle污染物。配合超聲波清洗工藝，可用于攝像頭模組等具有高精、高密、組裝有microBGAs、Flip-Chips等高新元器件的高潔凈清洗。該產(chǎn)品采用我公司專利技術研發(fā)，清洗力強，氣味清淡，不含鹵素。溫和配方對FPC等板材所用敏感金屬及電子元器件等均具有良好的材料兼容性，是一款非常理想的環(huán)保型水基清洗劑。
攝像模組/指紋模組清洗劑W3500的產(chǎn)品特點：
1、清洗負載能力高，具有超長的使用壽命，維護成本低。
2、適用于如攝像頭模組等具有高精、高密、高潔凈清洗要求的精密電子零件的清洗。
3、配方溫和，對 FPC 等板材所用敏感金屬合金及電子元器件等均具有良好的材料兼容性。
4、能有效清除鏡片表面殘留的靜電、污垢及金屬離子、灰塵等 Particle，清洗率高達 95%以上；
5、不含鹵素，使用安全，不需要額外的防爆措施。
攝像模組/指紋模組清洗劑W3500的適用工藝：
水基清洗劑W3500適用于超聲波清洗工藝。
攝像模組/指紋模組清洗劑W3500產(chǎn)品應用：
水基清洗劑W3500主要用于去除油污、手印、靜電粒子、灰塵等污染物，對金屬氧化層也有一定的清洗效果。
W3500用在超聲波清洗工藝中，可批量清洗結構復雜的電子組裝件，對于底座低間隙的助焊劑殘留物也能達到很好的清洗效果。在超聲波清洗工藝中，將待清洗件浸沒在清洗槽中，利用超聲波在清洗劑中的空化作用、加速度作用及直進流作用，和清洗劑對污垢的超強溶解性相結合，使污垢層被溶解、分散、乳化，或剝離而達到清洗目的。
具體應用效果如下列表中所列：
