電子行業(yè)工藝制程發(fā)展迅速，很多電子產(chǎn)品制造工藝為了提高耐用性、穩(wěn)定性和安全環(huán)保要求，都在電子制程清洗環(huán)節(jié)廣泛使用水基清洗劑，那么水基清洗劑該如何選擇？水基清洗劑選擇有哪些要求呢？

水基清洗劑選擇應滿足以下要求：

1、水基清洗劑使用成本低，不能造成過多的資源消耗和成本支出。

2、兼容性好，對清洗對象的損傷應在生產(chǎn)許可的限度內(nèi)，對金屬可能造成的腐蝕有相應的抑制措施。

3、清洗過程不在清洗對象表面殘留，清洗后不形成新的有害物質(zhì)，不影響后續(xù)工序的產(chǎn)品質(zhì)量。

4、水基清洗劑要對清洗對象有很強的反應、分散或溶解清除能力，在較短的時間內(nèi)，可有效徹底地除去污染物。

5、水基清洗劑清洗條件溫和，盡量不依賴于附力口的強化條件，如對溫度、壓力、設備等無過高要求。

6、清洗劑對生物與環(huán)境無毒或低毒，所生成的廢氣，廢液與廢渣，處理后需符合國家相關法規(guī)的要求。