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IGBT功率模塊半水基清洗劑清洗案例 - 合明科技

發(fā)布日期:2023-02-23 11:48:47     來源:IGBT功率模塊清洗     作者:合明科技     瀏覽次數(shù):120
核心提示:目前,大量的IGBT功率模塊仍在采用傳統(tǒng)的正溴丙烷等溶劑清洗,隨著對環(huán)保的管控和對產(chǎn)品可靠性的要求不斷提高,原有的傳統(tǒng)溶劑清洗已不能滿足IGBT功率模塊清洗。對此,合明提出創(chuàng)新型的IGBT功率模塊清洗方案。

來源:深圳市合明科技有限公司  技術開發(fā)中心;半水基清洗劑W3300T之案例分享

為應對能源危機和生態(tài)環(huán)境惡化等問題,世界各國均在大力發(fā)展新能源汽車、高壓直流輸電等新興應用,促進了大功率電力電子變流裝置的廣泛應用。大功率變流裝置的可靠性對這些應用而言十分重要。裝置的可靠性與其核心器件IGBT功率模塊密切相關。

IGBT功率模塊半水基清洗劑清洗案例

目前,大量的IGBT功率模塊仍在采用傳統(tǒng)的正溴丙烷等溶劑清洗,隨著對環(huán)保的管控和對產(chǎn)品可靠性的要求不斷提高,原有的傳統(tǒng)溶劑清洗已不能滿足IGBT功率模塊清洗。對此,合明提出創(chuàng)新型的IGBT功率模塊清洗方案。

合明半水基清洗工藝解決IGBT功率模塊清洗方案:采用合明自主研發(fā)專利配方,可在清洗IGBT凹槽內存在大量的錫膏殘留的同時去除金屬界面高溫氧化膜,更含有保護芯片獨特的材料,配方材料親水性強,清洗后易于用水漂洗干凈。

A客戶IGBT功率模塊原來使用正溴丙烷清洗,由于環(huán)保限制,擬用水基清洗工藝清洗IGBT。下面是合明半水基清洗IGBT的前后對比圖。

IGBT功率模塊半水基清洗劑清洗前后對比

IGBT功率模塊清洗過程:采用合明半水基清洗劑W3300T,用超聲方式清洗和漂洗。清洗后大量的錫膏殘留完全洗凈,并得到均一的去除氧化層的金屬表面,同時芯片亦完美兼容,完全滿足A客戶的需求。

從傳統(tǒng)的溶劑型清洗轉入水基清洗工藝,合明需提醒諸位的是,由于清洗機理不同,半水基清洗工藝需配合清洗溫度和清洗時間來保障清洗效果。清洗設備需吻合半水基清洗工藝的要求,包括超聲頻率、清洗和漂洗的功能設置,設備必須滿足水基工藝,清洗材料與設備相輔相成,才能達到良好的清洗效果。

深圳市合明科技有限公司專注研發(fā)精密電子清洗劑20余年,擁有技術精湛的研發(fā)團隊、精良高端的實驗設備和專業(yè)的實驗室,為你解決電子制程精密清洗難題。


標簽: IGBT模塊清洗

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