一、概述
IRE-200光學(xué)薄膜測厚儀是一款超高精度的外延層厚度測量設(shè)備,利用紅外光譜經(jīng)傅里葉變換進(jìn)行快速分析,主要應(yīng)用于Si、GaAs、InP、SiC、GaN等各類外延片的外延層厚度測量。
■ 單拋/雙拋等多種模式選擇支持;
■ 自定義mapping功能;
■ 高檢測速率:Si標(biāo)準(zhǔn)外延片測量25點≤3min;
■ 高檢測精度:≤0.01um 。
二、產(chǎn)品特點
1)設(shè)備采用高性能光源模塊,光源穩(wěn)定性好,信噪比高,覆蓋范圍7800-350cm-1。
2)搭配自主研發(fā)算法軟件,可精準(zhǔn)快速地獲取測量結(jié)果。
3) 搭配自主研發(fā)的mapping運動臺,定位精準(zhǔn)、測量速度快。
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